Suis nanoelektromekanikal (NEM) mempunyai persamaan dengan suis konvensional semikonduktor apabila digunakan
sebagai transistor dan penderia walaupun prinsip operasinya berbeza. Perbezaan prinsip operasi suis ini memberikan
kelebihan kepada suis NEM untuk beroperasi dalam persekitaran yang melampau manakala suis konvensional
semikonduktor mempunyai kelebihan daripada segi infrastruktur fabrikasi yang canggih. Dalam kertas ini, kami
mengulas kemajuan terbaru dan potensi teknologi NEM dalam aplikasi pensuisan berdasarkan bahan berasaskan karbon
seperti CNT dan grafin. Kemajuan reka bentuk geometri suis NEM seperti struktur rusuk berlubang, mempunyai kelebihan
daripada segi voltan operasi peranti yang rendah, turut dibincangkan dalam kertas ini. Berdasarkan Kitaran Gemburan
Gartner, teknologi, proses dan produk untuk suis NEM atau hibrid NEM-CMOS berada di takuk berbeza iaitu di jurang
ilusi, cerun pencerahan dan dataran tinggi produktiviti. Kemudian, reka bentuk geometri suis NEM berasaskan bahanbahan
ini diulas dengan lengkap berdasarkan kajian kepustakaan terbaru. Kami mengenal pasti cabaran yang terlibat
dalam proses fabrikasi suis NEM berasaskan CNT dan grafin seperti kebocoran get dan proses litografi yang mencabar.
Kesimpulannya, kami meringkaskan kertas kajian ini kepada beberapa sudut perspektif, pandangan dan peluang pada
masa depan dalam teknologi suis NEM.